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Advanced Cluster T3 PE/TH ALD

半导体展:先进材料及晶圆级制造设备

Advanced Cluster T3 PE/TH ALD系列是我司的团簇式 ALD 设备。该系列搭载独立控制的真空传输、标准 ALD 反应腔、进/取样腔和冷却腔可实现多功能材料和器件制备；该系列适用于 28 / 14 nm 制程的 IC 逻辑芯片，3D NAND 及特殊记忆体。